碳納米管CVD制備系統用于大量制備納米碳材料，如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備；采用封閉式管式爐，石英反應管直徑50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；氣源包括氫氣、氮氣、甲烷、酒精等；

噴霧熱解成膜系統技術基本原理是將含有成膜成分的前驅體物質制成溶液，然后在高壓下使其霧化，噴射到預熱的基材上，發生分解反應，得到想要的薄膜材料；常用的高壓源通常為壓縮的空氣、氧氣、氮氣、氫氣等；

石墨烯制備系統（CVD）主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料，有一個水平石英管式爐。一個催化劑襯底（通常是銅鋁箔）放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入，在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。

Slot-Die涂布機是一種快速的涂布薄膜的方式，不僅用于光學膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴散膜等）、OLED涂布等，還可以用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等成卷基材的涂布，也應用于非連續基材如LCD玻璃基板光阻涂布。

Roll to Roll Slot-Die 卷對卷涂布系統是一種高效涂布方式，不僅用于光學膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴散膜等）、OLED涂布等，還可以用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等成卷基材的涂布，也應用于非連續基材如LCD玻璃基板光阻涂布。